晶圓旋轉光阻塗佈機 | 全省銀行資訊
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規格說明
• 機械人手臂自動取放片，晶片尋邊置中，自動coating光阻和軟烤冷卻。 • 光阻塗佈程式的參數有光阻管路、轉速、加速度、對應時間、EBR及Exhaust on/off 等。 • Spin speed 範圍在 50~5000 rpm，精準度為 +/-1 rpm。 • 高精密度的熱板溫度控制，控溫範圍在 50~200°C，平均溫控均勻性可達 0.8 °C 內。冷板的控溫能力在 0.2°C 之內。 • 機台潔淨等級為 Class 100 with HEPA。腔體設計無粉塵、光阻回濺、EBR及BSR 回濺等Defect。 • 不同厚度的光阻均勻度在 5% 之內。 • 配備光阻 dummy dispense 功能。
應用範圍
• 凸塊製程上光阻機 (PR/PI) • RDL 製程光阻 • 助焊劑 Coating • BARC、SOG Coating
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